판교 창업기업 플랜엑스가 미세회로 결함을 검출하는 광학 검사 기술을 앞세워 누적 수주액 30억 원을 달성했다고 17일 밝혔다.

플랜엑스가 개발한 기술은 미세회로 패턴에서 서브마이크론 수준의 결함을 검출하는 광학 검사 기술이다. 회사에 따르면 미세 결함을 식별하는 광학 기술의 양산라인 적용에 필요한 검사 속도와 가격 경쟁력을 확보해 실제 제조공정에 공급하고 있다.

플랜엑스에는 삼성전자·LG이노텍·고영테크놀러지·오로스테크놀러지 등 광학·검사 관련 기업 출신 엔지니어와 하버드대·프랑스 국립응용과학원(INSA)·KAIST 등 국내외 연구기관 출신 인력이 참여하고 있다.

현재는 반도체 분야로 적용 범위를 넓혀 반도체 유리기판과 웨이퍼 등을 대상으로 2D·3D 광학 검사·계측 기술을 개발 중이다. 서브마이크론급 결함을 생산라인에서 전수검사하고, 투명하거나 여러 층으로 구성된 구조물을 비접촉 방식으로 3차원 측정하는 기술 등이 주요 분야다.

반도체 공정이 미세화되고 구조가 복잡해져 검사·계측 기술의 중요성도 커지고 있다. 특히 첨단 반도체 공정에서는 생산 과정에서 발생하는 미세 결함과 구조 변화를 얼마나 정확하게 찾아내느냐가 공정 관리와 수율 확보에 영향을 미쳐, 구조의 높이와 형상 등을 측정하는 3차원 계측 기술의 활용 범위도 확대되고 있다.

플랜엑스는 반도체 산업 진출을 위한 광학 기술 관련 지식재산권을 확보하고 관련 기술 개발을 이어가고 있다.

지수환 플랜엑스 대표는 "이 역량을 바탕으로 아직 해외 광학 기술에 의존하고 있는 더 어려운 검사·계측 시장에 도전할 것"이라고 말했다.

[ 경기신문 = 김민규 인턴기자 ]