삼성전자가 미국 오스틴의 시스템 반도체(LSI) 전용라인인 S2라인의 풀 가동을 본격적으로 시작해 새로운 이정표를 제시했다.

삼성전자는 지난해 8월 S2라인 건설을 시작해 당초 계획보다 1개월 앞당겨 지난 3월 완공했다.

이번 풀 가동은 제품 출하를 시작한 지 5개월만이다.S2라인은 반도체 제조라인인 팹(FAB) 건설에 7개월이 소요됐고, 생산량 확대(램프업, Ramp-up)에 5개월 밖에 걸리지 않았다.

첨단 300㎜ 자동화 라인으로 45나노 공정의 저전력 로직IC를 생산하는 S2라인은 월 4만장의 웨이퍼를 생산하는 능력을 갖췄다.

삼성전자는 이로써 국내 기흥캠퍼스와 미국 오스틴을 잇는 글로벌 시스템LSI 생산라인을 만드며, 고속 성장하는 시스템LSI 시장에 적극 대응하는 계기를 마련했다.

반도체 생산라인은 높은 수준의 청정 상태와 일정한 온·습도를 유지하고 제조 환경을 만드는 많은 시간과 비용이 들어간다.

삼성전자는 철저한 사전조사로 최적화된 설비와 공정 조건을 갖추고 시행착오 없이 안정적 수율을 확보해 가동 시기를 단축했다고 밝혔다.

하상록 삼성전자 DS사업총괄 시스템LSI사업부 상무는 “환경이 전혀 다른 해외사업장에 단기간에 국내 생산라인과 동일한 생산체제를 구축할 수 있었던 것은 앞선 기술과 현장 임직원들의 노력 덕분”이라고 피력했다.