검찰이 반도체 핵심 기술을 중국 회사에 유출한 혐의를 받는 삼성전자 전직 부장에게 1심에서 징역 20년을 선고해달라고 재판부에 요청했다.

13일 법조계에 따르면 검찰은 지난 12일 서울중앙지법 형사25부(지귀연 부장판사) 심리로 열린 김모 씨의 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의 결심공판에서 징역 20년을 구형했다.

김 씨와 함께 재판에 넘겨진 협력업체 전직 직원 방모 씨에게는 징역 10년을 구형했다.

검찰은 "기술 유출 범죄는 국가와 피해 기업의 기술적 기반을 흔들 수 있는 중대 범죄"라며 "제2, 제3의 범죄가 발생하지 않도록 엄정한 법 집행을 통해 경종을 울려야 한다"고 강조했다.

김 씨는 최종진술을 통해 "중국 CXMT(창신메모리테크놀로지)의 모든 자료는 CXMT의 경영층과 박사급들이 만들어내는 자료로, 제가 만들 수 있는 자료는 일부에 불과하다"며 "물의가 발생한 데 대해 진심으로 사죄한다"고 말했다.

앞서 김 씨는 국가 핵심기술인 삼성전자의 18나노 D램 반도체 공정 정보를 무단 유출해 중국 기업 CXMT가 제품 개발에 사용하게 한 혐의로 지난 1월 기소됐다. 

방 씨는 김 씨와 공모해 반도체 장비를 납품하는 A사의 설계기술자료를 CXMT에 넘긴 혐의를 받는다. 이들에 대한 1심 선고는 내년 1월 22일 이뤄질 예정이다.

[ 경기신문 = 장진 기자 ]